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HISA DENTALCLINIC
DIRECTOR’s BLOG

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Lecture day

歯科臨床
前日夜のウエルカムディナーに引き続き、初日は講義の日となりました。ホテルから貸切バスでイエテボリ大学に向かいました。 DSC04823.JPG DSC04824.JPG イエテボリ大学の中にある、20社ぐらいの企業が入居しているビルの中で講義は行われました。 DSC04828.JPG 最初の15分ぐらいで、この日のスケジュールを創設者のひとりであるFredrik Engman先生が解説しました。 DSC04841.JPG 最初の講義は、Lars Sennerby教授が行い、いつからインプラントに負荷をしてよいかということでした。 DSC04834.JPG DSC04836.JPG ネオス・インプラントの創設者の一人であるNeil Meredith教授 はオステルの開発者です。インプラントと骨との安定性を検討するために、現在、トルクレンチ、オステISQ、ペリオテストなどがありますが、今回の講義はオステルISQを使用してインプラント微少振動計測を行い、即時負荷が可能か、あるいは普通負荷が良いかを過去のデータから整理したものでした。 DSC04847.JPG コヒーブレークの間に、創設者のひとりであるFredrik Engman先生と記念撮影をしました。 DSC04851.JPG 小宮山先生が立ち上がって、Lars Sennerby先生に質問している所です。後ろの席にいるのは私です。 DSC04853.JPG DSC04857.JPG DSC04869.JPG DSC04873.JPG 次にFredrik Engman先生がネオス・インプラントの歴史とインプラントのデザインについてお話ししました。私がこのインプラントを使用するに至った経緯は、3点あります。一つ目はインプラントの表面が超親水性で、動画でインプラントの形成窩にインプラントを入れると、インプラントヘッドまで血液が吸い上げられたことです。二つ目はインプラントとアバットメントがNeolocコネクションという結合様式で、300Ncmの負荷をかけても壊れないことです。三つ目は、直径3.25㎜のインプラントを除いたすべてのインプラントはplatform switchingになっており、補綴が共通している点です。今回はインプラントとアクセスアバットメントの結合様式について、詳細にお話しされました。 DSC04880.JPG 左がChrister Dahlin教授、右が元技工士で今は引退しているIgmar Galeus先生です。 DSC04877.JPG 昼食を挟んで、午後からはChrister Dahlin教授の非吸収性メンブレンについての講義が行われました。その講義内容は、従来の非吸収性メンブレン(First generation e-PTFE membranes)に比較して、ネオスのネオジェン(Next generation e-PTFE membranes)が優れているというお話でした。 DSC04879.JPG DSC04883.JPG 最後に、GBR成功の鍵はPASS(初期の創傷閉鎖、血管形成誘導、空間の保持、安定性)であると結論付けました。 その後に、ネオジェンのHands-onが模型を使って行われました。 DSC04902.JPG すべての日程終了後、参加者にサーティフィケートが授与され、記念撮影が行われました。大変、充実した一日でした。